Ποια είναι τα παραδείγματα της διαδικασίας εναπόθεσης;

Χημική εναπόθεση ατμών (CVD): Αυτή η διαδικασία περιλαμβάνει τη χημική αντίδραση ενός εξατμισμένου προδρόμου αερίου με ένα υπόστρωμα για την κατάθεση ενός λεπτού φιλμ. Για παράδειγμα, το νιτρίδιο του πυριτίου (SI3N4) μπορεί να κατατεθεί από την αντίδραση των αερίων σιλανίου (SIH4) και αμμωνίας (NH3) σε υψηλές θερμοκρασίες.

Φυσική εναπόθεση ατμών (PVD): Αυτή η διαδικασία περιλαμβάνει τη φυσική εναπόθεση υλικού σε ένα υπόστρωμα με εξάτμιση ή ψεκασμό. Για παράδειγμα, οι μεταλλικές μεμβράνες μπορούν να εναποτίθενται με θερμική εξάτμιση, όπου το μέταλλο θερμαίνεται μέχρι να εξατμιστεί και στη συνέχεια να συμπυκνώνεται στο υπόστρωμα.

Ηλεκτροεπίδραση: Αυτή η διαδικασία περιλαμβάνει την εναπόθεση υλικού σε ένα υπόστρωμα με ηλεκτροχημικές αντιδράσεις. Για παράδειγμα, ο χαλκός μπορεί να ηλεκτροδετείται με βύθιση του υποστρώματος σε διάλυμα θειικού χαλκού και εφαρμόζοντας τάση μεταξύ του υποστρώματος και ενός ηλεκτροδίου χαλκού.

Επιδαξία μοριακής δέσμης (MBE): Αυτή η διαδικασία περιλαμβάνει την ανάπτυξη λεπτών μεμβρανών ενός κρυστάλλου με τη διαδοχική εναπόθεση μεμονωμένων ατομικών στρωμάτων. Για παράδειγμα, το αρσενίδιο του γαλλίου (GAAS) μπορεί να καλλιεργηθεί από MBE με εναλλακτικά στρώματα ατόμων γαλλίου και αρσενικού σε ένα υπόστρωμα.

εναπόθεση ατομικού στρώματος (ALD): Αυτή η διαδικασία περιλαμβάνει τη διαδοχική εναπόθεση μεμονωμένων ατομικών στρωμάτων με εναλλασσόμενα παλμούς προδρόμων αερίων. Για παράδειγμα, το οξείδιο του αλουμινίου (AL2O3) μπορεί να εναποτίθεται από ALD με εναλλασσόμενους παλμούς τριμεθυλαλουμίνης (TMA) και αερίων νερού (H2O).